■ 특허 개요
○ 특허 명칭
“함 불소 화합물 분해 장치에 사용되는 플라즈마 고효율 전극”
○ 특허권자 : ㈜정명
■ 처리방식
○ 본 기술은 반도체 생산시설 등의 옥상 배출가스 덕트에 직접 부착하여 대량으로 배출되는 지구 온실가스인 이산화탄소(CO2), 과불화탄소(PFCs), 사불화탄소(CF4), 삼불화질소(NF3), 를 주로
분해 처리하는 장치임.
○ 제품의 장점은 상온 상압에서 사용이 가능할 뿐 아니라
유지관리가 편리하고 대용량처리를 할 수 있어 경제성이 뛰어남.